Omslagsbild från Amazon
Bild från Amazon.com

Chemical vapour deposition : precursors, processes and applications / editors, Anthony C. Jones and Michael L. Hitchman

Medverkande: Jones, Anthony C [edt] | Hitchman, Michael L, 1941- [edt].
Materialtyp: materialTypeLabelBokFörläggare: Cambridge : Royal Society of Chemistry, 2009Beskrivning: xv, 582 s. : ill.ISBN: 9780854044658 (hbk.); 0-85404-465-5 (hbk.).Ämnen: CVD | Chemical vapour depositionOther classification: C23C16/00 | C23C16/56
Taggar från det här biblioteket: Den aktuella titeln har inga taggar från det här biblioteket. Logga in för att lägga till taggar.
Betyg
    Medelbetyg: 0.0 (0 röster)
Bestånd
Exemplartyp Aktuellt bibliotek Avdelning Hyllsignatur Status Förfallodatum Streckkod Exemplarreservationer
Bok Bok Enhetsbiblioteken Enhet J ENH.J/J8 Che (Liknande titlar(Öppnas nedan)) Tillgänglig 201822282319E
Antal reservationer: 0

Det finns inga kommentarer om exemplaret.

för att skicka en kommentar.

Teknik från Koha