Normalvy MARC-vy ISBD-vy

Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar

Materialtyp: materialTypeLabel

BokFörläggare: Köln Heymann, 1968Upplaga: 3., erw. Aufl. / Neu bearb. von Karl Nastelski.Beskrivning: xxx, [1] 2505 s.Ämnen: Patentlagstiftning | Mönsterrätt | Design law | Patent legislation

Taggar från det här biblioteket: Den aktuella titeln har inga taggar från det här biblioteket. Logga in för att lägga till taggar.

Bestånd
Exemplartyp	Aktuellt bibliotek	Avdelning	Hyllsignatur	Status	Förfallodatum	Streckkod	Exemplarreservationer
Bok	PRV - Biblioteket Stockholm	Magasin	MAG 71 (Liknande titlar(Öppnas nedan))	Tillgänglig		2023678823120

Antal reservationer: 0

Föregående				Ingen omslagsbild finns tillgänglig	Ingen omslagsbild finns tillgänglig			Nästa
Föregående	MAG 707 Trade marks : an introductory guide and bibliography /	MAG 708 Patenter : en værdifuld, men ofte overset teknisk informationskilde /	MAG 709 Regional workshop on patent information and documentation /	MAG 71 Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar	MAG 710 Handbook on the use of the U.S. patent classification system /	MAG 711 Guide to German patent and trade mark publications, including East Germany /	MAG 712 Guide to industrial property literature: France /	Nästa

Det finns inga kommentarer om exemplaret.

för att skicka en kommentar.