Chemical vapour deposition : precursors, processes and applications / editors, Anthony C. Jones and Michael L. Hitchman

Medverkande: Jones, Anthony C [edt] | Hitchman, Michael L, 1941- [edt].

Materialtyp: materialTypeLabel

BokFörläggare: Cambridge : Royal Society of Chemistry, 2009Beskrivning: xv, 582 s. : ill.ISBN: 9780854044658 (hbk.); 0-85404-465-5 (hbk.).Ämnen: CVD | Chemical vapour depositionOther classification: C23C16/00 | C23C16/56

Taggar från det här biblioteket: Den aktuella titeln har inga taggar från det här biblioteket. Logga in för att lägga till taggar.

Bestånd ( 1 )
Kommentarer ( 0 )

Bestånd
Exemplartyp	Aktuellt bibliotek	Avdelning	Hyllsignatur	Status	Förfallodatum	Streckkod	Exemplarreservationer
Bok	Enhetsbiblioteken	Enhet J	ENH.J/J8 Che (Liknande titlar(Öppnas nedan))	Tillgänglig		201822282319E

Antal reservationer: 0

Liknande Enhetsbiblioteken titlar, Avdelning: Enhet J Stäng hyllsökare (Dölj hyllsökare)

Föregående		Ingen omslagsbild finns tillgänglig			Ingen omslagsbild finns tillgänglig			Nästa
Föregående	ENH.J/J8 Bre Materiallära : metaller, plaster, gummi, smörjmedel, keramer och trä /	ENH.J/J8 Bre Electrodeposition of alloys : principles and practice. Vol. 1, [General survey, principles, and alloys of copper and of silver]	ENH.J/J8 Cha Glow discharge processes : sputtering and plasma etching /	ENH.J/J8 Che Chemical vapour deposition : precursors, processes and applications /	ENH.J/J8 Chi Principles of metallic corrosion /John Pollock Chilton	ENH.J/J8 Coa Coatings technology handbook /	ENH.J/J8 Coa Coatings and coating processes for metals /	Nästa

Det finns inga kommentarer om exemplaret.

för att skicka en kommentar.